由于如何選擇適宜分散劑會直接影響到砂磨機超細(xì)研磨效果，因此，一直備受大家關(guān)注。大家都知道使用砂磨機等設(shè)備研磨會出現(xiàn)一些常見的現(xiàn)象，沉淀，氣泡，反粗等現(xiàn)象，今天就來說說使用設(shè)備砂磨機研磨分散后如何出現(xiàn)，以及為何要用分散劑解決。

    在砂磨機中，物料顆粒的粉碎首先主要是依靠高速運動的磨珠間的碰撞、擠壓、剪切實現(xiàn)物料顆粒的粒度變小，比表面積增大。在粒度逐漸細(xì)化的過程中，顆粒在范德華力、雙電層靜電作用等影響下會重新團聚。因此，可以認(rèn)為顆粒超細(xì)粉碎到一定程度后，伴隨著一系列顆粒微觀上理化特性的質(zhì)變，就會出現(xiàn)一個“粉碎?團聚”的可逆過程。當(dāng)這正反兩個過程的速度相等時，便達到了粉碎過程中的動態(tài)平衡，則顆粒尺寸達到極限值。此時，進一步延長粉碎時間是徒勞的。因為這時的機械力已不足以解聚團聚體使顆粒進一步破碎，只能用于維持粉碎平衡，并有可能造成更多小顆粒團聚體，于是，所謂的“逆研磨”、“返粗”現(xiàn)象就會出現(xiàn)。

    從某種程度上說，分散劑的恰當(dāng)選擇是解決“逆研磨”、“返粗”現(xiàn)象唯一的行之有效的途徑。分散劑可以影響顆粒之間的范德華力、雙電層靜電力、溶劑化膜和吸附層的空間斥力諸作用。

    所以選擇分散劑是有必要的，但是設(shè)備的選擇也是相當(dāng)重要的，好的設(shè)備才能更好地避免更多的問題，減少成本和助劑的添加投入，使得產(chǎn)品物料性能提高。廣州儒佳砂磨機廠家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)濕法砂磨機以及干式混合設(shè)備。

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